机译:中子能谱的CTOF测量和蒙特卡罗分析 从能量辐射的铁质靶向后方向 400至1200 meV
机译:质子辐照钨靶从200 Mev到1200 Mev的钨靶向后方向的Ctof测量和中子光谱的蒙特卡洛分析
机译:从200-1000 MeV质子辐照的铅靶向后方向的CTOF测量和中子光谱的蒙特卡洛分析
机译:使用CR-39在171 MeV质子辐照的不同水深下测量LET(线性能量转移)光谱:与Monte Carlo模拟的比较
机译:通过质子(660mev)照射厚铀靶辐射期间测量中子谱的技术
机译:蒙特卡洛计算能量范围为50–400 MeV的质子的EBT3和EBT-XD薄膜的质量阻止能力
机译:中子能谱的CTOF测量和蒙特卡罗分析 从200至1000meV质子照射的铅靶向后方向